二氟化氙（XeF2），又稱二氟代氙，分子量為169.30，在電子工業中，XeF2常被用作矽的蝕刻氣體，由于XeF2和矽的化學反應是自發反應，XeF2對矽的腐蝕工藝具有非常高的選擇性，在XeF2對矽進行腐蝕過程中，XeF2氣體通過自由擴散到矽襯底表面，并與最外層矽原子發生化學反應生成氣态Xe和氣态SiF4，從而實現對矽的腐蝕。

産品指标

産品用途：

在電子工業中，XeF 2常被用作矽的蝕刻氣體。此外，二氟化氙是一種選擇性很好的氟化試劑，在無機氟化物制備及有機合成中有廣泛的應用，但其隻有在氣相和非水溶液中才具有氟化性質，在水溶液中隻能起氧化劑的作用。

包裝、貯存：

二氟化氙是一個穩定的化合物，可長期儲放于鎳制容器或鋁合金無縫鋼瓶内，包裝規格有100g、500g、1kg、2kg和5kg規格，以滿足科研院所及生産型企業的不同要求。具體包裝規格可根據用戶需求定制更改。二氟化氙儲存于陰涼、通風的庫房，應與氧化劑、食用化學品、堿金屬分開存放，遠離火種、熱源。