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半導體制程(支撐)材料

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高純氫

更新時間:2020-07-04 點擊數:2174

高純氫(H2)是一種無色無臭的可燃氣體,在空氣中的可燃極限為4.1%~74.1%(體積濃度),其自燃溫度為571.2℃,沸點為-252.8℃,熔點為-259.2℃。常溫下,氫氣的性質很穩定,不容易跟其它物質發生化學反應。高純氫在電子微芯片等行業中有着非常重要的應用,在一些電子材料的生長與襯底的制備、氧化工藝、外延工藝以及化學氣相沉積技術中,均采用氫氣作為反應氣、還原氣或保護氣。

産品指标

産品用途:

氫是主要的工業原料,也是重要的工業氣體和特種氣體。在電子微芯片的制造中,需要采用氫氣作為反應氣、還原氣或保護氣。除此之外,氫氣在石油化工、冶金工業、食品加工、浮法玻璃、精細有機合成、航空航天等方面有着廣泛的應用。同時,氫也是一種理想清潔的二次能源,航天工業中更是使用液氫作為燃料。    

包裝、貯存:

高純氫充裝在鋼質無縫氣瓶中,鋼瓶規格為10L、40L。具體包裝規格可根據客戶需求定制更改。高純氫儲存于陰涼、通風的庫房中,遠離火種、熱源。庫房采用防爆型照明、通風設施,庫溫不超過30 ℃,相對濕度不超過80%。



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